3分鐘帶你詳細了解顯微分光膜厚儀的10大特色功能

更新時間：2021-04-26

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顯微分光膜厚儀廣泛應用于各種薄膜、涂層光學常數(nandk)和厚度的精確測量，設備分為在線和離線兩種工作模式，操作便捷，幾秒鐘內即可完成測量和數據分析，USB連接計算機控制；薄膜表面或界面的反射光會與從基底的反射光相干涉，干涉的發生與膜厚及折光系數等有關，因此可通過計算得到薄膜的厚度。光干涉法是一種無損、精確且快速的光學薄膜厚度測量技術，我們的薄膜測量系統采用光干涉原理測量薄膜厚度。

顯微分光膜厚儀特色功能：

•使用顯微光譜法在微小區域內通過絕.對反射率進行測量，可進行高精度膜厚度/光學常數分析。

•可通過非破壞性和非接觸方式測量涂膜的厚度，例如各種膜、晶片、光學材料和多層膜。測量時間上，能達到1秒/點的高速測量，并且搭載了即使是初次使用的用戶，也可容易出分析光學常數的軟件。

•頭部集成了薄膜厚度測量所需功能

•通過顯微光譜法測量高精度絕.對反射率（多層膜厚度，光學常數）

•1點1秒高速測量

•顯微分光下廣范圍的光學系統（紫外至近紅外）

•區域傳感器的安全機制

•易于分析向導，初學者也能夠進行光學常數分析

•獨立測量頭對應各種inline客制化需求

•支持各種自定義

測量項目：

•絕.對反射率測量

•多層膜解析

•光學常數分析（n：折射率，k：消光系數）

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