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單擺桿氣浮隔振平臺內部采用柔性雙腔與超小孔層流阻尼設計,內部中心單擺桿結構,當外部發生振動時內部擺桿擺動可有效的打消外部振動,采用進口閥體,頂部調節裝置可完成 ±15mm 調節范圍,全系標配膜片保護器推薦對于振動要求非常高的儀器使用,可選配腳輪。
光學暗箱用于搭建簡易密閉空間作業,對光和聲振動敏感的儀器提供了保護空間,同時起到防塵作用。產品分為兩種: 透明罩箱和遮光罩箱。透明罩箱側板為透明PMMA 材料,遮光罩箱側板為不透明的經過陽極氧化黑處理的合金板,罩箱可選擇上開蓋、推拉門、等樣式 . 罩箱內部配有連接角件,能夠方便的把罩箱固定在光學平臺上。罩箱兩側配有防塵護線圈,可以方便布線。
三線擺氣浮隔振平臺為我司結合多年在隔振領域的研發及應用經驗,開發的一款高性能氣浮隔離器,支腿為獨立式圓腿支撐,無整體共振,內部三線擺設計可將振動隔離到更低的水平,并在受到干擾后實現高精度工作臺重新定位。
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